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真空鍍膜基礎知識

電阻蒸發源蒸鍍法

采用鉭，鉬，鎢等高熔點金屬，做成適當形狀的蒸發源，其上裝入待蒸發材料，讓氣流通過，對蒸發材料進行直接加熱蒸發，或者把待蒸發材料放入氧化鋁，氧化鈹等坩鍋中進行間接加熱蒸發，這就是電阻加熱蒸發法。

利用電阻加熱器加熱蒸發的鍍膜機結構簡單，造價便宜，使用可靠，可用于熔點不太高的材料的蒸發鍍膜，尤其適用于對鍍膜質量要求不太高的大批量的生產中，迄今為止，在鍍鋁制鏡的生產中仍然大量使用著電阻加熱蒸發的工藝。

電阻加熱方式的缺點是：加熱所能達到的高溫度有限，加熱器的壽命也較短。近年來，為了提高加熱器的壽命，國內外已采用壽命較長的氮化硼合成的導電陶瓷材料作為加熱器。據日本報道，可采用20％～30％的氮化硼和能與其相熔的耐火材料所組成的材料來制作坩鍋，并在表面涂上一層含62％～82％的鋯，其余為鋯硅合金材料。

真空鍍膜系統

真空室

涂層設備主要有連續涂層生產線及單室涂層機兩種形式，不銹鋼材料制造、弧焊接、表面進行化學拋光處理，真空室組件上焊有各種規格的法蘭接口。

真空獲得部分

在真空技術中，真空獲得部分是重要組成部分。真空的獲得不是一種真空設備和方法所能達到的，必須將幾種泵聯合使用，如機械泵、羅茨泵、分子泵系統等。

真空測量部分

真空系統的真空測量部分，就是要對真空室內的壓強進行測量。像真空泵一樣，沒有一種真空計能測量整個真空范圍，人們于是按不同的原理和要求制成了許多種類的真空計。如熱偶計，電離計，皮拉尼計等。

電源供給部分

靶電源主要有直流電源、中頻電源、脈沖電源、射頻電源(RF)，常見的電源廠商有AE，ADL，霍廷格等。

真空鍍膜系統

電子束蒸發源蒸鍍法

將蒸發材料放入水坩鍋中，直接利用電子束加熱，使蒸發材料氣化蒸發后凝結在基板表面成膜，是真空蒸發鍍膜技術中的一種重要的加熱方法和發展方向。電子束蒸發克服了一般電阻加熱蒸發的許多缺點，特別適合制作熔點薄膜材料和高純薄膜材料。

依靠電子束轟擊蒸發的真空蒸鍍技術，根據電子束蒸發源的形式不同，又可分為環形，直，e型和空心陰極電子等幾種。

環形是由環形的陰極來發射電子束，經聚焦和偏轉后打在坩鍋內使金屬材料蒸發。它的結構較簡單，真空鍍膜系統生產廠家，但是功率和效率都不高，基本上只是一種實驗室用的設備，目前在生產型的裝置中已經不再使用。