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• 價格說明 : 議定
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如何選擇真空鍍膜設備供應商

真空檢測系統，目前基本都是用復合真空計，熱偶規+電離規的組合，這個組合在遇到充入大量含有C元素的氣體的工藝，電離規很容易毒化，造成電離規損壞，如果鍍制含有大量C元素的氣體的工藝，可以考慮，配置電容薄膜規。

真空電源，國產電源和進口電源的差距還是比較明顯，當然價格也比較優惠，一臺國產的20KW中頻電源在8萬左右，一臺進口的中頻電源在20萬，進口電源的性能和可靠性，穩定性會更好，國產電源由于產地就在國內，可能在服務上要好于進口電源。

薄膜均勻性概念

1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會根據不同鍍膜給出詳細解釋。

2.化學組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，真空鍍膜系統哪家好，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。 具體因素也在下面給出。

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真空鍍膜基礎知識

鍍膜方法可以分為氣相生成法，氧化法，離子注入法，擴散法，電鍍法，涂布法，液相生長法等。氣相生成法又可分為物理氣相沉積法，化學氣相沉積法和放電聚合法等。

真空蒸發，濺射鍍膜和離子鍍等通常稱為物理氣相沉積法，是基本的薄膜制備技術。它們都要求淀積薄膜的空間要有一定的真空度。所以，真空技術是薄膜制作技術的基礎，獲得并保持所需的真空環境，是鍍膜的必要條件。