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真空鍍膜系統
離子蒸發及濺射源
多弧鍍的蒸發源一般為圓餅形，俗稱圓餅靶，也有長方形的多弧靶。靶座中裝有磁鐵，通過前后移動磁鐵，改變磁場強度，可調整弧斑移動速度及軌跡。為了降低靶及靶座的溫度，要給靶座不斷通入冷卻水。為了保證靶與靶座之間的高導電、導熱性，還可以在靶與靶座之間加錫墊片。磁控濺射鍍膜一般采用長方形或圓柱形濺射陰極。
ST系列鍍膜機
ST系列鍍膜機系我司標準化產品，滿足大部分實驗室科研需求，豐富的可選配置也可響應您的特殊需要。特點：1、集成一體化結構。
2、極限真空度高，可達7×10-5Pa，可保證更高的鍍膜純凈度，提高鍍膜質量。
3、從大氣到工作背景真空（7×10-4Pa）時間短，30分鐘左右（充干燥氮氣）。 系統停泵關機12小時后真空度：≤8Pa。
4、整機采用柜式結構，真空鍍膜系統廠家，密封性能好，防塵防水，安全。
5、磁控、熱蒸發多種鍍膜方式可選。
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真空鍍膜設備真空泵的選擇
真空泵工作時產生的振動對工藝過程及環境有無影響。若工藝過程不允許，應選擇無振動的泵或者采取防振動措施。
了解被抽氣體成分，氣體中含不含可凝蒸氣，有無顆粒灰塵，有無腐蝕性等。選擇真空泵時，需要知道氣體成分，針對被抽氣體選擇相應的泵。如果氣體中含有蒸氣、顆粒、及腐蝕性氣體，應該考慮在泵的進氣口管路上安裝輔助設備，如冷凝器、除塵器等。
真空泵在其工作壓強下，應能排走真空設備工藝過程中產生的全部氣體量。
真空設備對油污染的要求。若設備嚴格要求無油時，應該選各種無油泵，如：水環泵、分子篩吸附泵、濺射離子泵、低溫泵等。如果要求不嚴格，可以選擇有油泵，加上一些防油污染措施，如加冷阱、障板、擋油阱等，也能達到清潔真空要求。
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真空鍍膜系統廠家***由艾明坷科技（北京）有限公司提供。艾明坷科技（北京）有限公司是一家從事“手套箱,溶劑凈化”的公司。自成立以來，我們堅持以“誠信為本，穩健經營”的方針，勇于參與市場的良性競爭，使“艾明坷”品牌擁有良好口碑。我們堅持“服務至上，用戶至上”的原則，使艾明坷在工業自動控制系統及裝備中贏得了客戶的信任，樹立了良好的企業形象。 特別說明：本信息的圖片和資料僅供參考，歡迎聯系我們索取準確的資料，謝謝！