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規格型號 | - |
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更新日期 | 2025-04-23 10:37 |
如何選擇真空鍍膜設備供應商
真空檢測系統,目前基本都是用復合真空計,熱偶規+電離規的組合,這個組合在遇到充入大量含有C元素的氣體的工藝,電離規很容易毒化,造成電離規損壞,如果鍍制含有大量C元素的氣體的工藝,可以考慮,配置電容薄膜規。
真空電源,國產電源和進口電源的差距還是比較明顯,當然價格也比較優惠,一臺國產的20KW中頻電源在8萬左右,一臺進口的中頻電源在20萬,進口電源的性能和可靠性,穩定性會更好,國產電源由于產地就在國內,可能在服務上要好于進口電源。
薄膜均勻性概念
1.厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,在光學薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位,約為100A),真空鍍膜的均勻性已經相當好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內,也就是說對于薄膜的光學特性來說,真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度,也就是說要實現10A甚至1A的表面平整,具體控制因素下面會根據不同鍍膜給出詳細解釋。
2.化學組分上的均勻性: 就是說在薄膜中,真空鍍膜系統哪家好,化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性,SiTiO3薄膜,如果鍍膜過程不科學,那么實際表面的組分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,鍍的膜并非是想要的膜的化學成分,這也是真空鍍膜的技術含量所在。 具體因素也在下面給出。
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真空鍍膜基礎知識
鍍膜方法可以分為氣相生成法,氧化法,離子注入法,擴散法,電鍍法,涂布法,液相生長法等。氣相生成法又可分為物理氣相沉積法,化學氣相沉積法和放電聚合法等。
真空蒸發,濺射鍍膜和離子鍍等通常稱為物理氣相沉積法,是基本的薄膜制備技術。它們都要求淀積薄膜的空間要有一定的真空度。所以,真空技術是薄膜制作技術的基礎,獲得并保持所需的真空環境,是鍍膜的必要條件。
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注冊資本 | 未填寫 | 公司注冊時間 | |
公司所在地 | 北京 | 企業類型 | 企業單位 |
主營行業 | 輔助機械 , |
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主營產品或服務 | 手套箱,溶劑凈化 |
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